Инструкция Compliment No Problem Маска для лица распаривающая
Основные сведения
Состав
Aqua, Kaolin, Oryza Sativa Germ Powder, Paraffinum Liquidum, Stearic Acid, Titanium Dioxide, Cetearyl Alcohol, Glyceryl Stearate, Glycerin, Hydrolyzed Candida saitoana Extract, Palm Oil Refined, Phenoxyethanol, Ceteareth-20, Triethanolamine, Allantoin, Xanthan Gum, Parfum, Vanillyl Butyl Ether, CI 42090.